X射线散射和荧光测量数据的结合可以促使周期性纳米结构的几何形状得以无损重建。研究人员为了应用这种利用同步辐射的新型混合技术，建了一个小型测量室，并在BESSY II投入使用。
图示：氮化硅晶格样品的混合测量结果。改变方位角，在680 eV（电子伏特）的激发能下，测量氮和氧的荧光（a），以及前三个衍射级的散射（b）。图（a）还显示了在不同方位角下该结构的晶胞内局部场分布的模拟情况。
典型的GISAXS（掠入射小角X射线散射）测量是在样品上的辐射入射角很平的情况下进行的。另一方面，在极紫外线（EUV）或软X射线光谱范围内，对结构化样品的辐射散射的测量可以在相对较大的入射角下进行，最高可达30°（相对于表面的测量），因为所使用材料的反射率一般在这个角度比较高。大的入射角具有两个主要优势：首先，样品上的光斑范围缩小了，即使是相对较小的结构化区域（100µm²-）也可以进行研究，这与半导体行业的样品有关。其次，如今可以在测量室中整合X射线荧光的激发和检测。结合X射线散射，现在有了第二个互补的信息渠道，可以确定样品的元素分布。通过使用作为重建测量标准的亚硝酸硅晶格样品，就能运用新仪器首次演示这种混合测量方法。
