您当前的位置:首页 > 共晶碳化物不均匀度
激光扫描检眼镜产品描述:通常由激光光源、激光传输装置和控制装置等部分组成。发生强激光(GB 7247标准的3B、4),并应用光学断层扫描、共焦激光扫描等技术进行检查诊断的设备。 激光扫描检眼镜预期用途:用于眼功能和眼部疾患的检查诊断。 激光扫描检眼镜品名举例:激光扫描检眼镜、共焦激光扫描检眼镜、激光眼科诊断仪、共焦激光断层扫描仪、激光间接检眼镜 激光扫描...查看详情>>
收起百科↑ 最近更新:2023年04月23日
机构所在地:上海市
检测项:共模抑制比KCMR 检测样品:半导体集成电路TTL电路 标准:SJ/T10735-1996《半导体集成电路TTL电路测试方法的基本原理》
检测项:共发射极正向电流传输比h21E 检测样品:三极管 标准:GB/T4587-1994《半导体器件分立器件第7部分双极型晶体管》第Ⅳ章
机构所在地:湖北省武汉市
检测项:电信端口的传导共模骚扰 检测样品:电气照明和类似设备 标准:电气照明和类似设备的无线电骚扰特性的限值和测量方法 CISPR 15:2013
机构所在地:北京市
检测项:共信道抑制 检测样品:无线寻呼系统 标准:GB/T15938-1995《无线寻呼系统设备总规范》
检测项:共信道抑制 检测样品:集群收发信机 标准:ITU-R《国际电联无线电规则》
检测项:共信道抑制 检测样品:无绳电话 标准:ITU-R《国际电联无线电规则》
机构所在地:北京市
检测项:共模抑制比 检测样品:运算放大器 标准:半导体集成电路电压比较器 测试方法的基本原理 GB/T 6798-1996
检测项:共模抑制比 检测样品:CMOS电路 标准:半导体集成电路CMOS电路 测试方法的基本原理 SJ/T 10741-2000
机构所在地:湖北省武汉市
检测项:交流共模抑制能力 检测样品:直流数字 电压表 标准:数字多用表通用技术条件GB/T 13978-2008
检测项:共模干扰抑制能力实验 检测样品:直流数字 电压表 标准:数字多用表通用技术条件GB/T 13978-2008
机构所在地:安徽省蚌埠市