您当前的位置：首页 > 技术级低黏羧甲基纤维素（CMC-LVT）
临界胶束浓度(Critical micell concentration) 临界胶束浓度，也有称临界胶团浓度，简称CMC。乳化剂溶液性质发生突变的浓度范围，称为乳化剂的临界胶束浓度。乳液体系在达到临界胶束浓度后，许多个乳化剂分子聚集起来形成胶束。CMC的单位是mol/L。 临界胶束浓度 测试方法： ...查看详情>>
临界胶束浓度(Critical micell concentration)
临界胶束浓度，也有称临界胶团浓度，简称CMC。乳化剂溶液性质发生突变的浓度范围，称为乳化剂的临界胶束浓度。乳液体系在达到临界胶束浓度后，许多个乳化剂分子聚集起来形成胶束。CMC的单位是mol/L。
临界胶束浓度测试方法：
表面张力法、电导法、染料法、浊度法、单点式超滤法、荧光探针法
临界胶束浓度测试仪器：
电导率测定仪、光谱仪（染料法）、超滤膜实验装置（但电视超滤法）
收起百科↑ 最近更新：2017年04月12日
检测项：信息技术设备无线电骚扰 检测样品：信息技术设备(电磁兼容) 标准：信息技术设备的无线电骚扰 限值和测量方法
检测项：信息技术设备无线电骚扰 检测样品：信息技术设备(电磁兼容) 标准：GB 9254-2008
检测项：信息技术设备无线电骚扰 检测样品：信息技术设备(电磁兼容) 标准：CISPR 22:1997
机构所在地：上海市
机构所在地：江苏省苏州市
检测项：地下水位 检测样品：地基及桩基 标准：深圳市基坑支护技术规范 （SJG05-2011） 建筑基坑支护技术规程（JGJ120-2012）* 建筑基坑工程监测技术规范 (GB50497-2009)
机构所在地：广东省深圳市
检测项：浪涌（冲击）抗扰度试验 检测样品：信息技术设备 标准：信息技术设备抗扰度限值和测量方法 CISPR 24: 2010 信息技术设备抗扰度限值和测量方法 EN 55024: 2010
检测项：工频磁场抗扰度试验 检测样品：信息技术设备 标准：信息技术设备抗扰度限值和测量方法 CISPR 24: 2010 信息技术设备抗扰度限值和测量方法 EN 55024: 2010
检测项：电源端子骚扰电压 检测样品：信息技术设备 标准：信息技术设备抗扰度限值和测量方法 CISPR 24: 2010 信息技术设备抗扰度限值和测量方法 EN 55024: 2010
机构所在地：广东省深圳市
检测项：低温 检测样品：信息技术设备，通信设备，电信设备（环境） 标准：4. YD/T 1059-2004移动通信系统基站天线技术条件环境试验 第6.10部分：试验方法：高温
检测项：恒定湿热 检测样品：信息技术设备，通信设备，电信设备（环境） 标准：4. YD/T 1059-2004移动通信系统基站天线技术条件环境试验 第6.10部分：试验方法：低温
检测项：半功率波束宽度 检测样品：移动通信天线 标准：《移动通信天线通用技术规范》 GB/T 9410-2008 《天线标准测试程序》 IEEE Std 149TM-1979(R2008)
机构所在地：广东省深圳市
