您当前的位置:首页 > 免疫荧光技术
荧光免疫分析仪产品描述:通常由加样模块、反应模块、光学检测模块(荧光)、数据处理模块、温育温控模块、清洗分离模块等中的一种或几种组成。原理一般为将荧光信号转变为数字信号,由数据处理系统经过计算得出浓度值。 荧光免疫分析仪预期用途:与适配试剂配合使用,用于人体样本中待测物的定性和/或定量分析。 荧光免疫分析仪品名举例:荧光免疫分析仪、干式荧光免疫分析仪、时间分辨免疫荧光...查看详情>>
收起百科↑ 最近更新:2023年08月21日
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术作不锈钢的光辐射真空光谱测定分析 ASTM E1086-08
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术作不锈钢的光辐射真空光谱测定分析 ASTM E1086-08
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术对不锈钢作光学发射真空光谱测定分析的试验方法 ASTM E1086-2014
机构所在地:湖北省武汉市
检测项:工频磁场抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
检测项:静电放电抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
检测项:射频电磁场辐射抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
机构所在地:广东省东莞市
检测项:辐射骚扰 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
检测项:骚扰功率 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
检测项:断续骚扰 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
机构所在地:浙江省杭州市