您当前的位置:首页 > 共模干扰
激光扫描检眼镜产品描述:通常由激光光源、激光传输装置和控制装置等部分组成。发生强激光(GB 7247标准的3B、4),并应用光学断层扫描、共焦激光扫描等技术进行检查诊断的设备。 激光扫描检眼镜预期用途:用于眼功能和眼部疾患的检查诊断。 激光扫描检眼镜品名举例:激光扫描检眼镜、共焦激光扫描检眼镜、激光眼科诊断仪、共焦激光断层扫描仪、激光间接检眼镜 激光扫描...查看详情>>
收起百科↑ 最近更新:2023年04月23日
检测项:共模抑制比 检测样品:数字集成 电路 标准:半导体集成电路CMOS电路测试方法的基本原理 SJ/10741-2000
检测项:共发射正向电流传输比 检测样品:双极型 晶体管 标准:半导体器件分立器第7部分双极型晶体管 GB/T4587-1994
机构所在地:甘肃省兰州市
检测项:*场地电压驻波比测试 检测样品:电波暗室 标准:无线电干扰和抗扰测量仪及方法用规范.第1-4部分:无线电干扰和抗扰测量仪.辅助设备.辐射干扰CISPR 16-1-4:2010
机构所在地:上海市
检测项:共模抑制比 检测样品:半导体集成电路电压比较器 标准:GB/T6798-1996 半导体集成电路电压比较器测试方法的基本原理
检测项:共模抑制比 检测样品:半导体集成电路电压比较器 标准:GB/T6798-1996 《半导体集成电路电压比较器测试方法的基本原理》
检测项:共发射极正向电流传输比 检测样品:场效应管 标准:GB/T4586-1994 半导体器件分立器件第8部分:场效应晶体管
机构所在地:江苏省连云港市
检测项:电信端口的传导共模骚扰 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T 17618-1998 CISPR 24:2010 EN 55024:2010
机构所在地:广东省珠海市