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检测项:发射极-基极 截止电流 检测样品:场效应晶体管 标准:GJB128A-1997 半导体分立器件试验方法 方法3011
检测项:发射极-基极 截止电流 检测样品:双极型晶体管 标准:GB/T 4587-1994 半导体分立器件和集成电路 第7部分:双极型晶体管 第Ⅳ章 通用测试方法
检测项:基极-发射极 饱和电压 检测样品:场效应晶体管 标准:GJB128A-1997 半导体分立器件试验方法 方法3011
机构所在地:湖北省宜昌市
检测项:发射极-基极击穿电压 检测样品:场效应 晶体管 标准:半导体分立器件试验方法GJB128A-1997 方法3011
机构所在地:四川省成都市
机构所在地:湖北省武汉市
检测项:发射极-基极截止电流(IEBO) 检测样品:晶体管 标准:半导体分立器件和集成电路 第7部分:双极型晶体管 GB/T4587-94 半导体分立器件试验方法 GJB128A-97
检测项:发射极-基极击穿电压(V(BR)EBO) 检测样品:场效应管 标准:半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管 GB/T4586-94 半导体分立器件试验方法 GJB128A-97
检测项:基极-发射极 饱和电压(VBEsat) 检测样品:场效应管 标准:半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管 GB/T4586-94 半导体分立器件试验方法 GJB128A-97
机构所在地:陕西省西安市
检测项:基极-发射极电压 检测样品:低频放大管壳额定的双极型晶体管 标准:低频放大管壳额定的双极型晶体管空白详细规范GB/T7577-1996
检测项:基极-发射极饱和电压 检测样品:低频放大管壳额定的双极型晶体管 标准:低频放大管壳额定的双极型晶体管空白详细规范GB/T7577-1996
检测项:基极-发射极电压 检测样品:低频放大管壳额定的双极型晶体管 标准:低频放大管壳额定的双极型晶体管空白详细规范GB/T7577-1996
机构所在地:山东省济南市
机构所在地:上海市