您当前的位置:首页 > 扫描电子显微技术
光学相干断层扫描仪产品描述:通常由光学相干系统、数据获取处理和/或分析系统组成。利用光学相干成像原理,获取组织断层面的信息。 光学相干断层扫描仪预期用途: 用于获取组织断层面的信息。 光学相干断层扫描仪品名举例:眼科光学相干断层扫描仪 光学相干断层扫描仪管理类别:Ⅱ 光学相干断层扫描仪相关指导原则: 1、眼科光学相干断层扫描仪注册...查看详情>>
收起百科↑ 最近更新:2023年04月23日
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术作不锈钢的光辐射真空光谱测定分析 ASTM E1086-08
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术作不锈钢的光辐射真空光谱测定分析 ASTM E1086-08
检测项:不锈钢组成元素:碳、硅、锰、磷、硫、铬、镍、铜、钒、铌、钛、钼 检测样品:金属材料 标准:用点对面激发技术对不锈钢作光学发射真空光谱测定分析的试验方法 ASTM E1086-2014
机构所在地:湖北省武汉市
检测项:工频磁场抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
检测项:静电放电抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
检测项:射频电磁场辐射抗扰度 检测样品:信息技术设备 标准:信息技术设备抗扰度限值和测量方法 GB/T17618-1998 CISPR 24:2010 EN55024:2010
机构所在地:广东省东莞市
检测项:辐射骚扰 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
检测项:骚扰功率 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
检测项:断续骚扰 检测样品:信息技术设备(EMC) 标准:信息技术设备的无线电骚扰限值和测量方法 GB 9254-2008 信息技术设备 无线电干扰性能 限值和测试方法 CISPR 22-2008
机构所在地:浙江省杭州市
机构所在地:广东省广州市