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临界胶束浓度(Critical micell concentration) 临界胶束浓度，也有称临界胶团浓度，简称CMC。乳化剂溶液性质发生突变的浓度范围，称为乳化剂的临界胶束浓度。乳液体系在达到临界胶束浓度后，许多个乳化剂分子聚集起来形成胶束。CMC的单位是mol/L。 临界胶束浓度 测试方法： ...查看详情>>
临界胶束浓度(Critical micell concentration)
临界胶束浓度，也有称临界胶团浓度，简称CMC。乳化剂溶液性质发生突变的浓度范围，称为乳化剂的临界胶束浓度。乳液体系在达到临界胶束浓度后，许多个乳化剂分子聚集起来形成胶束。CMC的单位是mol/L。
临界胶束浓度测试方法：
表面张力法、电导法、染料法、浊度法、单点式超滤法、荧光探针法
临界胶束浓度测试仪器：
电导率测定仪、光谱仪（染料法）、超滤膜实验装置（但电视超滤法）
收起百科↑ 最近更新：2017年04月12日
检测项：共模抑制比 检测样品：运算放大器 标准：半导体集成电路电压比较器 测试方法的基本原理 GB/T 6798-1996
检测项：共模抑制比 检测样品：CMOS电路 标准：半导体集成电路CMOS电路 测试方法的基本原理 SJ/T 10741-2000
机构所在地：湖北省武汉市
检测项：交流共模抑制能力 检测样品：直流数字 电压表 标准：数字多用表通用技术条件GB/T 13978-2008
检测项：共模干扰抑制能力实验 检测样品：直流数字 电压表 标准：数字多用表通用技术条件GB/T 13978-2008
机构所在地：安徽省蚌埠市
检测项：渗碳层深度 检测样品：钢铁材料 标准：航空钢制件渗碳、碳氮共渗渗层深度测定方法 HB 5493-1991
检测项：渗氮层深度 检测样品：碳钢、合金钢 标准：航空钢制件渗氮、氮碳共渗渗层深度测定方法 HB 5023-1994
机构所在地：陕西省西安市
检测项：共摸抑制比KCMR 检测样品：晶体三极管 标准：GB/T4587-1994 《半导体分立器件和集成电路 第7部分:双极型晶体管》
检测项：共摸输入电压范围VIC 检测样品：晶体三极管 标准：GB/T4587-1994 《半导体分立器件和集成电路 第7部分:双极型晶体管》
机构所在地：北京市
