北京市公安司法鉴定中心

检测项：可见光照相 检测样品：图像 标准：《翻拍照相方法规则》 GA/T 156-1996， 《脱影照相方法规则》 GA/T 157-1996， 《物证检验照相要求规则》GA/T 221-1999， 《近距离照相方法规则》 GA/T 222-1999， 《偏振光照相规则》

机构所在地：北京市 更多相关信息>>

泉州市公安局物证鉴定所

检测项：可见光照相 检测样品：照 相 标准：《刑事照相负正片后期制作质量标准》GA/T119-1995 《翻拍照相方法规则》 GA/T156-1996 《脱影照相方法规则》 GA/T157-1996 《比例照相方法规则》 GA/T158-1996 《物证检验照相要求规则》 GA/T221-1999

检测项：可见光照相 检测样品：照 相 标准：刑事照相负正片后期制作质量标准GA/T 119-1995 翻拍照相方法规则 GA/T 156-1996 脱影照相方法规则 GA/T 157-1996 比例照相方法规则 GA/T 158-1996 物证检验照相要求规则 GA/T 221-1999 偏振光照相

机构所在地：福建省泉州市 更多相关信息>>

南德认证检测（中国）有限公司

检测项：部分项目 检测样品：激光产品 标准：激光产品的安全.设备分类和要求和用户指南 GB 7247.1-2001 IEC 60825-1:1993+A1+A2 IEC 60825-1:2007 EN 60825-1:2007 AS/NZS 2211.1:2004

检测项：部分项目 检测样品：激光产品 标准：激光产品的安全 第1部分:设备分类、要求和用户指南 GB 7247.1-2001 GB 7247.1-2012 IEC 60825-1:1993 +A1:1997+A2:2001 IEC 60825-1:2007 EN 60825-1:2007 AS/N

机构所在地：江苏省无锡市 更多相关信息>>

三明市公安局物证鉴定所

检测项：可见光照相 检测样品：照相 标准：《刑事照相负正片后期制作质量标准》GA/T119-1995 《翻拍照相方法规则》 GA/T156-1996 《脱影照相方法规则》 GA/T157-1996 《比例照相方法规则》 GA/T158-1996 《物证检验照相要求规则》 GA/T221-1999

机构所在地：福建省三明市 更多相关信息>>

西安市公安司法鉴定中心

检测项：可见光照相 检测样品：特种 照相 标准：《翻拍照相方法规则》 GA/T156-1996 《物证检验照相要求规则》 GA/T 221-1999 《近距离照相方法规则》 GA/T 222-1999 《脱影照像方法规则》 GA/T 157-1996 《比例照相规则》 GB/T 23865-2009 公

检测项：可见光照相 检测样品：照相技术 标准：《翻拍照相方法规则》 GA/T156-1996 《物证检验照相要求规则》 GA/T 221-1999 《近距离照相方法规则》 GA/T 222-1999 《脱影照像方法规则》 GA/T 157-1996 《比例照相规则》 GB/T 23865-2009 公

机构所在地：陕西省西安市 更多相关信息>>

常州市计量测试技术研究所

检测项：全部项目 检测样品：眼镜镜片 标准：《光学树脂眼镜片》QB 2506-2001、《眼镜镜片 第1部分：单光和多焦点镜片》GB 10810.1-2005、《眼镜镜片及相关眼镜产品 第3部分：透射比规范及测量方法》GB 10810.3-2006

检测项：全部项目 检测样品：太阳镜 标准：《太阳镜》QB 2457-1999、《眼镜镜片 第1部分：单光和多焦点镜片》GB 10810.1-2005、《眼镜镜片及相关眼镜产品 第3部分：透射比规范及测量方法》GB 10810.3-2006、《眼镜架 通用要求和试验方法》GB/T 14214-200

机构所在地：江苏省常州市 更多相关信息>>

中兴通讯股份有限公司材料实验室

检测项：发光强度 检测样品：发光二极管 标准：半导体分立器件和集成电路第5-3部分：光电子器件测试方法 GB/T 15651.3-2003 半导体分立器件和集成电路.第5-3部分:光电子器.测量方法 IEC 60747-5-3-2009 LED的测量 CIE-127-2007

检测项：发光强度 检测样品：发光二极管 标准：半导体分立器件和集成电路第5-3部分：光电子器件测试方法 GB/T 15651.3-2003 半导体分立器件和集成电路.第5-3部分:光电子器.测量方法 IEC 60747-5-3-2009 LED的测量 CIE-127-2007

机构所在地：广东省深圳市 更多相关信息>>