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镀层/涂层厚度简介 厚度是衡量电镀层/涂层品质的重要指标之一,它直接影响镀件的耐蚀性、装配导电性以至产品的可靠性。镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。 镀层厚度检测方法 镀层厚度测定方法分无损法和破坏法。 镀层厚度无损检测方法包括重量法、磁性法、涡流法,射线反射法,x 射线荧光法、机械量具法等; 镀层厚度破坏检测方法包括...查看详情>>
收起百科↑ 最近更新:2017年06月29日
检测项:输出高电平电压 检测样品:半导体集成电路TTL电路 标准:SJ/T10735-1996 半导体集成电路TTL电路测试方法 的基本原理
检测项:输出低电平电压 检测样品:半导体集成电路TTL电路 标准:SJ/T10735-1996 半导体集成电路TTL电路测试方法 的基本原理
检测项:输入电流 检测样品:半导体集成电路TTL电路 标准:SJ/T10735-1996 半导体集成电路TTL电路测试方法 的基本原理
机构所在地:湖北省宜昌市
机构所在地:湖南省长沙市
机构所在地:甘肃省天水市
机构所在地:江苏省扬州市
检测项:瞬断电试验 检测样品:电子及电气零组件 标准:电线电缆电性能试验方法第4部分:导体直流电阻试验 GB/T 3048. 4-2007
机构所在地:江苏省昆山市
检测项:全部参数 检测样品:半导体激光/低频治疗仪 标准:激光治疗仪 第一部分:半导体激光/低频治疗仪 YZB/桂0021-2008
机构所在地:广西壮族自治区南宁市
检测项:供绞合导体用的可触及导体端子 检测样品:测量、控制和实验室用电气设备 标准:测量、控制和实验室用电气设备的安全要求 第1部分:通用要求 IEC61010-1:2010
机构所在地:广东省深圳市
检测项:镭-226 检测样品:锰矿石 标准:用半导体γ谱仪分析低比活度γ放射性样品的标准方法GB/T11713-1989
检测项:铀-238 检测样品:土壤 标准:用半导体γ谱仪分析低比活度γ放射性样品的标准方法GB/T11713-1989
检测项:铯-137 检测样品:金属与合金 标准:用半导体γ谱仪分析低比活度γ放射性样品的标准方法GB/T11713-1989
机构所在地:山东省烟台市