1、设置系统适用性试验的目的是什么？

对分析设备、电子设备、试验操作和被分析样品组成的完整的系统进行评估。根据被论证的方法类型，对某一特定的方法建立系统适用性参数。

2、如何设计系统适用性要求？

2.1评价指标

分离度、灵敏度、进样精密度、理论塔板数，有的包括主峰时间、出峰顺序。

2.2评价对象：系统适用性溶液+灵敏度溶液。

2.2.1系统适用性溶液制备

（1）杂质对照品+供试品

优点：配制过程相对简单，杂质水平设计空间较大。

缺点：需要使用杂质对照品，对制备困难的杂质对照品成本较高。

（2）对照品或供试品破坏

优点：无需使用杂质对照品，减少对照品制备成本，特别是对制备比较困难的杂质对照品

缺点：配制过程较复杂，要求破坏条件稳定和好重现；要求破坏后产生的杂质谱能有效评价适用性指标。

（3）对照品或供试品破坏+杂质对照品

优点：减少了降解杂质对照品的制备成本。

缺点：配制过程复杂。

2.2灵敏度溶液制备：一般是有关物质对照品溶液的1/10-1/50，供试品溶液的0.05%-0.1%。

2.3基本原则

（1）以最难分离的相邻杂质分离度为指标；

（2）灵敏度溶液信噪比大于10；

（3）对照品溶液进样精密度RSD不大于2.0%或1.5%，浓度较低的对照品溶液进样精密度RSD可以放宽；

（4）必要时规定主峰时间和出峰顺序。

3、某原料药有关物质系统适用性试验制定过程

3.1系统适用性溶液制备

（1）采用“杂质对照品+供试品”方式制备；

（2）分析实际存在的合成工艺杂质和降解杂质（包括大于报告限度并小于鉴定限度的未知杂质）；

（3）每日最大剂量小于2g，添加杂质水平设计为0.2%；

（4）配制过程：

各杂质贮备液：制成每1ml含杂质Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、A、B、C、D、E、F各0.2mg溶液；

系统适用性溶液：称取API约10mg置于10ml量瓶中，加各杂质贮备液100μl，再加适量稀释剂使溶解并稀释至刻度，摇匀，即得。（杂质水平约0.2%）；

灵敏度溶液：系统适用性溶液稀释2000倍，制成每1ml含API约1μg溶液（0.05%供试品溶液浓度）。

3.2不同耐用性条件下系统适用性溶液

（1）不同pH值影响

（2）不同仪器和色谱柱影响（pH3.5）

3.3系统适用性要求制定

基于3.2可知，该有关物质检测方法中主峰和已知杂质与相邻杂质峰之间的分离受流动相pH值以及仪器或色谱柱批次影响明显。分离难点为主峰与相邻杂质峰（杂质C与未知杂质），杂质A与杂质B，杂质Ⅲ与相邻杂质（未知杂质或杂质F）。另外，杂质A与杂质B在异常pH条件下也会出现前后出峰颠倒的现象。

故该方法系统适用性要求，系统适用性溶液色谱图中，出峰顺序依次为杂质D、杂质C、API、杂质E、杂质A、杂质B、杂质Ⅱ、杂质Ⅰ、杂质Ⅲ和杂质F，各色谱峰与相邻杂质峰之间分离度应满足要求（包括主峰与相邻峰之间分离度不小于1.5，各已知杂质与相邻峰之间分离度不小于1.5）。灵敏度溶液色谱图中，主峰信噪比不小于10。