本文介绍了光刻机结构及双工件台技术。

2024/10/29 更新 分类：科研开发 分享

本文介绍了光刻机成像系统及光学镀膜技术。

2024/11/10 更新 分类：科研开发 分享

由imec和ASML组成的imec-ASML 联合High NA实验室在开发图案化和蚀刻工艺、筛选新的光刻胶和底层材料、改进计量和光掩模技术方面取得了进展。

2022/05/12 更新 分类：科研开发 分享

最新消息，近日佳能（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的半导体工艺。

2023/10/17 更新 分类：科研开发 分享

近日，日本半导体行业正在迎来一个重要的里程碑，Rapidus公司成为日本首家获得极紫外(EUV)光刻设备的半导体公司。

2024/12/23 更新 分类：科研开发 分享

近日，有消息称，ASML将于未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55。

2023/12/21 更新 分类：科研开发 分享

今天为大家整理了电子电器、机动车、石油化工、医疗器械、医药等领域的新技术和研发新动向，欢迎持续关注

2018/08/08 更新 分类：科研开发 分享