本文介绍了光刻机结构及双工件台技术。

2024/10/29 更新 分类：科研开发 分享

本文介绍了光刻机成像系统及光学镀膜技术。

2024/11/10 更新 分类：科研开发 分享

本文主要介绍了光刻胶材料于技术研究进展和光刻胶主要生产国家和地区概况

2021/07/09 更新 分类：行业研究 分享

本文回顾了不同光刻胶体系的基本组分、作用原理与技术特点，在此基础上分析了下一代光刻技术，特别是大分子自组装和极紫外光刻的技术特点及其对相关材料的挑战。

2020/07/06 更新 分类：科研开发 分享

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。

2020/10/28 更新 分类：科研开发 分享

当然，在当前国际政治地缘下，中国半导体产业也面临着原材料供应链的不稳定性和价格上涨的风险。未来，中国光刻胶国产化之路，既面临较高的技术门槛，又有国产化带来的机遇。

2023/12/12 更新 分类：行业研究 分享

本文首先介绍光刻和电子束曝光的基本工艺流程，之后对工艺过程中缺陷来源进行分析。

2022/07/27 更新 分类：科研开发 分享

由imec和ASML组成的imec-ASML 联合High NA实验室在开发图案化和蚀刻工艺、筛选新的光刻胶和底层材料、改进计量和光掩模技术方面取得了进展。

2022/05/12 更新 分类：科研开发 分享

最新消息，近日佳能（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的半导体工艺。

2023/10/17 更新 分类：科研开发 分享

清华大学和浙江大学合作展示了一种极其灵敏的氧化锆杂化-(2,4-双(三氯甲基)6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪)(ZrO2-BTMST)光刻胶系统，可以实现7.77 m s–1的印刷速度，比传统聚合物光刻胶快三到五个数量级。

2023/10/03 更新 分类：科研开发 分享