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TLV62569芯片失效模式与分析

嘉峪检测网        2025-03-24 09:02

失效模式分析:下管先过压击穿,然后上管过热失效。

 

市场有两种故障类型:

1、Vin和SW均与GND短路

2、SW与GND短路。

 

市场失效共性分析:下管失效位置一致,上管失效位置随机分布(但都在上管的中间位置,即散热最差的位置)

 

开盖分析:市场故障开盖及去层发现下管边缘处有过压击穿点形貌,上管中间有热斑,推断故障机理为下管先受过电应力导致击穿(通常边缘边缘位置电应力最大先击穿),上管在下管被击穿后开通时上下管同时导通MOS发热导致热失效,失效点在MOS中间散热最差的地方形成一个热斑。

 

 

导致其下管击穿的原因,通常不是存在真实的过电应力,因为已经有很多客户在其官网提报,可能是其耐压设置偏下限,在低温下耐压进一步下降导致发生击穿失效。

解决方案:使用TLV62569A或者国产替代,经受害者验证,这两种方案均有效。

需注意:TLV62569A我司选用的是SOT563-6封装,该封装采用的是bump;TLV62569我司选用的是SOT23-6封装,该封装采用的是wire bonding。

国产替代:钰泰/ETA3485,受害者已验证没问题。国产替代很多,查看规格书可用发现耐压规格做的比TI大,目前这个物料国产替代已经有很多,杰华特也有相应的规格。

 

写在最后:有的时候EOS只是一个现象,但是导致EOS问题的并不一定真的存在过电应力,可能是芯片设计存在薄弱点。TLV62569的问题分析并没有找到根因,这个根因可能只能存在于TI内部,但因为很多客户均已提报了相同类型的问题,那么可以学习这些受害者的经验,导入改善措施。

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来源:Top Gun实验室